安徽交變霉菌試驗箱真菌在土壤中及各種材料上生長，產(chǎn)生孢子而傳播。孢子脫離母體發(fā)芽而進一步生長，因此孢子極小，容易隨流動的空氣傳播，一旦生長環(huán)境條件適宜，即形成為污染，對設備的性能產(chǎn)生影響。溫度和濕度是霉菌生長的基本條件，而水分是孢子發(fā)芽的必要條件，物體表面上存在有灰塵或其他親水性物質，可以從大氣中吸收足夠的水分和營養(yǎng)，以供孢子發(fā)芽生長。大量試驗證明，造成設備損壞的大多數(shù)霉菌，發(fā)芽最適宜溫度在20℃—30℃之間，相對濕度低于65%時，孢子就不會發(fā)芽生長；大于此值時，濕度越大，生長越快。長霉對產(chǎn)品的影響主要有以下三個方面：原發(fā)性影響：霉菌即使對材料只發(fā)生輕微的損害，絕緣材料表面由于濕潤的菌絲層形成導電通路而大幅度降低絕緣電阻，嚴重地會引起電路頻率和阻抗特性發(fā)生重大的變化。材料一旦受到霉菌侵蝕會導致機械強度下降和其他物理性能的變化。繼發(fā)性影響：霉菌在材料上生長，能夠產(chǎn)生有機酸和其他電解質等代謝產(chǎn)物，而對材料產(chǎn)生繼發(fā)性影響。這種侵蝕會導致材料電解和老化。又因菌絲體具有吸水作用，形成了飽和的海綿層，即使外界濕度很低，菌絲體仍能在試驗體內(nèi)維持高濕狀態(tài)，導致元件受潮損壞。長霉即有損新產(chǎn)品外觀，又伴有難聞的霉味。關聯(lián)性影響：由于現(xiàn)代化設備的微型結構和相互聯(lián)結，設備的一處長霉可能會對不允許長霉的其他元件和微型件產(chǎn)生影響。因此，當考慮對單一分組件或元件的直接或間接影響時，必須對整機性能可能產(chǎn)生的影響給予評定。長霉試驗通常限于檢驗是否用了適當?shù)脑筒牧?。通過材料元件、零部件或小的組合件等試驗，很容易正確地獲得所需要的許多重要數(shù)據(jù)；

   安徽交變霉菌試驗箱長霉試驗是對試驗新產(chǎn)品準備運行非常有利霉菌生長條件下所作的最后檢測。通過試驗可以檢測出具有良好設計性能的產(chǎn)品發(fā)生任何故障的性質。綜上所述，長霉（霉菌）試驗是鑒定樣品及其材料在有利于霉菌生長的氣候條件下的長霉程度和由于長霉引起的表面變化和性能影響。交變霉菌試驗箱是讓試驗樣品在一個理想的，適宜霉菌孢子快速生長的氣候環(huán)境中，人為考核試驗樣品及其結構材料的抗霉性能，及長霉對試驗樣品電氣、機械性能影響的專用試驗設備。

    公司按照《GB10588—89；長霉試驗箱的技術條件》及其它相關環(huán)試標準中的要求（例如：試驗方法中規(guī)定的有關試驗箱的技術條件等），結合自身的技術特點、設計制造的夾套式“交變霉菌試驗箱"符合上述標準的規(guī)定，達到國標及標的要求，能夠按照《電工電子產(chǎn)品方法：GB2423.16—90試驗J—長霉試驗方法》和《GJB150.10—86，設備霉菌試驗》、《GJB4.10-83艦船電子設備環(huán)境試驗霉菌試驗》進行長霉試驗。

執(zhí)行標準：

1.   GB2423.16—90試驗J—長霉試驗方法

2.   GJB150.10—86，設備霉菌試驗

3.   GJB4.10-83艦船電子設備環(huán)境試驗霉菌試驗

4.   GB—2002長霉試驗 GB2002濕熱試驗

主要技術規(guī)格及參數(shù)：

1.   RD/JMS－150      工作室尺寸： 500（D）×500（W）×600（H）mm

2.   溫度范圍：    10℃ ～+80℃

3.   濕度范圍：    45%～98%

4.   溫度波動度：  ≤±0.5℃

5.   溫度均勻度：  ≤±2℃

6.   濕度波動度：  ≤±2%

7.   溫度均勻度：  ≤±3%

8.   功     率：   5Kw

9.   整 機噪音：   ≤70db

10.   加濕方式：    淺槽式加濕

11.   風    速：    0.5～1M/S

12.   自動換氣裝置，換氣量為3.2m3/h,換氣期間指示點溫度不超出設定值±1℃的范圍，相對濕度不小于85%,換氣結束時,指示點溫度、濕度在20min內(nèi)恢復到試驗條件。

13.   加濕用水：采用清潔的蒸餾水或干凈清潔的蒸餾水及其他軟水,加濕用水的電阻率≥500Ω·m2.    

14.   制冷系統(tǒng)冷卻方式：風冷式

15.   溫度、濕度控制采用程序控制方式，用戶可設定升溫、降溫速率及恒溫時間。對于增濕、除濕及恒濕工況，設備能按設定的曲線自動運行。

16.   工作條件：   電源：380V±10%，50Hz

試驗箱箱體結構

1.   整個箱體采用整體結構，分為三個部分，上部為工作室，下部為機械室。左側是控制夾層。

2.   箱體內(nèi)側采用1.0mm進口SUS321不銹鋼板，外側鋼板噴塑。                                        

3.   保溫材質為超細玻璃保溫棉。                    

4.   加熱方式： 空氣電加熱（夾套內(nèi)）

5.   加濕方式： 幕布加濕方式、加濕泵選用磁力泵

6.   在箱體側面設有帶塞子的φ50mm測試孔，配備孔蓋。                                          

7.   工作室配置2層網(wǎng)狀試品架，高度可自動調節(jié)，材質為不銹鋼

8.   溫濕度傳感器置于出風口。

9.   箱體的換氣裝置加有微生物過濾器，換氣時閥門自動打開并將過濾后的氣體由離心風機經(jīng)管道排出室外，管道配置長度最少5米。

10.  設有雙層鋼化玻璃觀察窗，厚度為8mm。

11.  機械裝配和電氣裝配參照DJ20132-92電子設備機械裝配技術要求和SJ20385電子設備電氣裝配技術要求。制冷系統(tǒng)

1.   低溫制冷采用法國“泰康"全封閉式壓縮機，其它制冷部件如美國RANCO、SPOLAN、丹麥DANFOSS、意大利CASTEL、日本鷺宮等產(chǎn)品。使用R404A環(huán)保型制冷劑?！?                                             

2.   濕熱試驗采用節(jié)能效果良好的高溫級壓縮機除濕。

3.   蒸發(fā)器采用主副兩個蒸發(fā)器并聯(lián)，主蒸發(fā)器采用翅片式蒸發(fā)器，作為低溫制冷時用。副蒸發(fā)器采用光管蒸發(fā)器，作為除濕降溫時使用。主副蒸發(fā)器由兩組電磁閥分別控制，以滿足試驗條件下任意工況的制冷或除濕。

4.   為確保系統(tǒng)安全運行，在系統(tǒng)中需設置高低壓控制　、　超壓　、　過載等保護系統(tǒng)。同時為了監(jiān)測系統(tǒng)運行情況，在高低壓端均需設有高低壓表監(jiān)測系統(tǒng)運行情況。

5.   制冷量調節(jié)采用分流法。

6.   其它制冷部件均采用美國RANCO、SPOLAN、瑞士“ALFALAVAL"、丹麥DANFOSS、意大利CASTEL、日本鷺宮等產(chǎn)品。

加濕系統(tǒng)

1.   由加濕、除濕、自動供水、斷水保護及濕度測控等部分組成。

2.   加濕采用淺槽式加濕法。濕度測量采用干濕球方法，由程序控制器自動完成并控制加濕實現(xiàn)加濕功能，同時將濕度值直接顯示出來。

3.   加濕器需采用耐高溫、絕緣性好、使用壽命長的全封閉不銹鋼加熱管。

4.   設置有自動供水裝置，以防止由于水的不斷蒸發(fā)而消耗水箱中的水。

控制系統(tǒng)

   控制系統(tǒng)：采用韓國進口“TEMI880" 5.7寸真彩觸摸屏可編程溫濕度控制儀表，與法國施奈德、日本富土等電氣元器件構成電氣控制系統(tǒng)?？刂破鞑捎萌形牟藛尾僮鞣绞?，顯示分辨率0.01℃，運行方式：定值和程序運行?？刂品绞剑哼B續(xù)PID控制?？稍O定曲線不少于30條程序曲線，可設定斷電恢復設定，包括：斷電后程序終止執(zhí)行、斷電后程序從斷點連續(xù)運行。在控制系統(tǒng)中需設有安全保護措施，包括：缺相保護、相序錯誤保護、相電壓不平保護、風機過載保護、超溫、斷電保護、機組高壓保護、機組低壓保護、機組過載保護、機組過溫保護、缺水保護、漏電等保護。在電氣控制系統(tǒng)中設有互鎖裝置，當循環(huán)風機沒有啟動或過載時制冷機組和加熱系統(tǒng)不能啟動，機組超高壓、超低壓、過載時制冷機組都將被禁止，缺水時不能啟動加濕器。試驗箱非電源部分不漏電，不積存靜電

關鍵配置

1.  儀　 表：韓國進口“TEMI880"液晶顯示觸摸屏溫濕度控制器

2.  機      組：進口原裝法國“泰康"全封閉式制冷機組。

3.  壓力控制器、電磁閥、手閥、干燥過濾器、蒸發(fā)器、膨脹閥：選用進口國際的優(yōu)質產(chǎn)品。

4.  電器元件：法國“施奈德"交流接觸器、開關、按鈕、日本富士小型繼電器等產(chǎn)品

5.  傳 感 器：Pt100。

6.  電源開關：帶漏電保護。

隨機資料

    設備的合格證、保修卡、裝箱單、設備使用說明書、儀表和個電器使用說明書、設備電氣原理圖、隨機零配件、易損件備件等

交 貨 說 明

    供方負責送貨上門，安裝調試操作介紹，直到需方員工獨立操作為止。質量保修期壹年，自安裝驗收之日起計。供方承諾終生提供備件，售后服務必須到現(xiàn)場解決的，供方在客戶時間之內(nèi)到達現(xiàn)場